| 设备名称 | 型号 | 设备图片 | 主要用途 |
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| 小型台式无掩模激光直写光刻系统 | MicroWriterML3 |
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| 匀胶机-热板-显影仪 | SPS POLOS |
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| 湿法刻蚀-清洗平台 | SN-KS200 |
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| 反应离子刻蚀系统 | SAMCO RIE-200NL |
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| 等离子清洗系统 | Nano Low-pressure |
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| ASP系列磁控溅射镀膜系统 | ANSEI TECH |
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| 多靶材磁控溅射系统 | HHV-TF600 |
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| 等离子增强原子层沉积系统 | SC6-PEV |
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| 精密划片机 |
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| 球楔一体多功能引线键合机 | MPP |
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| 三维光学轮廓仪 | BRUKER ContourX-100 |
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| DLP 3D 打印机 |
B9 Core 550 波长: 405 nm |
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| 飞秒激光器微纳加工系统 |
600 1032nm 180fs 800 KHz |
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| 绿光连续光激光器加工系统 |
Verdi G1 532 nm 10 W |
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| 蓝光脉冲光激光器 |
波长：400~450nm 功率：7W |
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| 柔性电路/天线高精度喷印混合制造平台 | 自主搭建 |
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| 场发射分析型透射电子显微镜 | FEI Talos F200X |
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| 扫描电镜-聚焦离子束双束系统 | FEI Helios G4 UC |
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| 物镜校正环境透射电子显微镜 | FEI Themis ETEM |
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| 双球差校正透射电子显微镜 | FEI Themis Z |
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| 多角度散射仪 | Wyatt Dynapro NanoStar |
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| 数据采集仪 | Agilent 34972A |
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| 电化学工作站 | CHI660E |
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| 阻抗分析仪 | IM3536 |
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| NI采集卡系统 | cDAQ-9174 |
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| 半导体分析仪 | Keithley 4200A-SCS |
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| 矢量网络分析仪 | 安立MS46322B |
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| 非线性高能超声测试系统 | RAM-5000 SNAP |
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| 超声试验平台 | Vantage 256 |
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| 二维分量二波混频干涉仪 | Tempo |
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